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            4. 玻璃鍍膜工藝中的薄膜形成過程

            玻璃鍍膜工藝中的薄膜形成過程

            在真空環境中,蒸發材料在蒸發源的作用下,以原子或分子狀態向任意方向直線運動,當遇到溫度較低的表面時,便被吸附,由于粒子的不斷增加,逐漸形成了膜層。從開始蒸發到基片表面成膜,可分為四個階段。

            1.成核一小島階段當入射的蒸發材料粒子被基片吸附,在基片上形成膜層的初始階段是出現大量的晶核,核的直徑約2nm,核間距離為30nm左右。被吸附的原子越來越多,形成了不同形狀的小島。瞬間內原子相互結合的過程如下:兩個各自單獨存在的原子一吸附的原子越來越多一接觸處逐漸變大一原子連成小島。
            2.聚結階段由于蒸發材料蒸氣不斷地產生,使原來的小島各自為中心進行擴大連接而形成大島。先吸附在基片表面的原子已凝結成小島,而后到的蒸氣原子,不斷填充在島與島之間的空隙而聚結成大島。

            3.中間過程大島與大島的邊沿不規則地相連,形成網狀薄膜、溝道、通路、孔眼階段。蒸發材料的蒸氣的數量逐漸增多,大島與大島之間形成蜂窩狀結構,空隙之間開始連通,但連通處尚不夠致密。

            4.成膜階段在溝道階段的基礎上,隨著蒸發材料蒸氣原子不斷地吸附,在溝道周圍不斷地填充,逐漸形成膜層,此薄膜在微觀上其厚度并不是均勻一致的,而是凹凸不平的。

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